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層流手術室具體工藝對溫度的（de）要求以後還（hái）要列舉，但作為總的原則看，由於加工精度越來越精細（xì），所（suǒ）以（yǐ）對溫度波動範圍（wéi）的要求越來越小。例（lì）如在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作（zuò）為掩膜板材料的玻璃與（yǔ）矽片的熱膨脹係（xì）數的（de）差要求越來越小。直（zhí）徑100 um的（de）矽片，溫（wēn）度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以後，對產品將有汙染，特別是怕鈉（nà）的半導體車間，這種車（chē）間不宜超過25度

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